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フォトレジストの主要物質 -photoacid generator (PAG)-CAD 検出器アプリケーションノート

フォトレジストの主要物質 -photoacid generator (PAG)-CAD 検出器アプリケーション概要関連チャート 1
フォトレジストの主要物質 -photoacid generator (PAG)-CAD 検出器アプリケーション概要関連チャート 2
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1、序文

リソグラフィーは集積回路 (IC)は製造における重要なプロセスであり、チップ製造プロセスを占めます 40%–50% 時間の流れ。フォトリソグラフィープロセスでは、フォトリソグラフィー装置だけでなく、重要な材料であるフォトレジストも必要です。フォトレジストは、半導体産業において最も重要な材料の 1 つです。集積回路製造プロセス全体において、フォトリソグラフィープロセスはおよその割合を占めます。 35% チップ製造コスト全体の中で、半導体製造の中核となるプロセスです。

フォトレジストは、主に有機溶剤、ポリマー樹脂、photoacid generator (PAG)(PAG)、添加剤組成物。その中には photoacid generator (PAG) これはフォトレジストの重要な成分であり、フォトレジストの感度と解像度に決定的な役割を果たします。photoacid generator (PAG) 純度および不純物の管理は、フォトレジストおよび半導体製品全体の歩留まりに重要な影響を与えます。 photoacid generator (PAG) 共通成分はトリフェニルスルフィドのカチオン部とポリフルオロスルホン酸のアニオン部であり、アニオン部には基本的には存在しません。 UV 吸収。荷電化粒子検出器(CAD) 光学活性である化合物に依存せず、コントロールとして使用可能 photoacid generator (PAG) 品質を追求した理想的な検出器。

荷電化粒子検出器(CAD)(帯電エアロゾル検出器、CAD)は近年開発された新しい汎用検出器です。その検出は測定対象物質の分子構造とは無関係であり、測定対象物質をイオン化する必要もありません。測定対象物質が半揮発性または不揮発性の化合物であれば使用可能です。CAD 検出。同時に、CAD 質量に敏感な検出器です。測定物質の応答値は、測定物質の絶対質量によって決まります。 試料 試されている。絶対質量がある限り、 試料 検査対象が一貫していれば、測定される応答値は基本的に同じになり、より低い検出限界とより高い感度が得られます。

荷電化粒子検出器(CAD) はい INSTRUMAX 研究開発チームは、長年にわたる熱心な研究と実験の繰り返しを経て、大きな科学技術的成果を達成しました。検出器は高度な電気技術と霧化技術を採用し、高感度・高精度な微量検出を実現 試料s.

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2、 装置 と材料

装置:Agilent1200 液体クロマトグラフ+荷電化粒子検出器(CAD)(INSTRUMAX、モデル: CADetector a1)

試薬:純水(ワトソン蒸留水)、アセトニトリル(クロマトグラフィーグレード)、ギ酸(分析グレード)

試料:トリフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート。

3、方法と結果

3.1 クロマトグラフィー条件

カラム: インフィニティラボポロシェル 120 EC-C18 カラム温度:55℃

流量:0.4mL/min 注入量:5μL

移動相 答え: 0.2%ギ酸水溶液 移動相 B:アセトニトリル

グラジエント溶出

CAD 条件:

装置 モデル:INSTRUMAX CADetector a1

ドリフトチューブ温度:40℃

霧化された空気の流れ:3L/min

分極電流:1μA

偏った気流:1L/min

3.2 試料 準備

シンナー:メタノール、メタノール水(1:1)

ペルフルオロブタンスルホン酸塩母液の調製 2000 µg/mL、純粋なメタノール溶液に溶解します。

メタノール - 水 (1:1) 溶液を段階的に希釈して、次の濃度の母液を調製します。 1、2、5、10、100 そして 1000 µg/mL 一連のソリューション。

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3.3 実験結果

3.3.1 メソッドの適用性

この方法の条件下では、アニオンとカチオンの保持時間は適切であり、分離能、ピーク形状、ピーク応答性はいずれも良好です。

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3.3.2 メソッドの感度

1 µg/mL 試料、注射 5μL;硫化トリフェニルはよく反応し、信号対雑音比は次のようになります。 129.6(ASTM メソッド);ペルフルオロブタンスルホン酸塩は優れた応答性と信号対雑音比を備えています 84.3(ASTM 法律)

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3.3.3 再現性

継続的な 6 ニードル再現性、硫化トリフェニルのピーク面積 RSD のために 0.989;パーフルオロブタンスルホン酸塩のピーク面積 RSD のために 0.433%、この方法の再現性が良好であることを示しています。

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3.3.4 リニア

1~1000 µg/mL 濃度の場合、硫化トリフェニルの相関係数 R は次のようになります。 0.99998; パーフルオロブタンスルホン酸塩の相関係数 R は、 0.99985、良好な直線性と広い直線範囲。

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4、実験の結論

この記事では採用しています HPLC-CAD メソッドペア photoacid generator (PAG) 中の陰イオンを分析します。 試料。このソリューションは高感度、良好なイオン分離と再現性、および広い直線範囲を備えています。として使用できます photoacid generator (PAG) 評価方法。

HPLC-CAD この方法は操作が簡単で、特異性が高く、感度が高く、次の目的で使用できます。 photoacid generator (PAG) 品質管理と手法の評価。