. La photolithographie est une étape critique de la fabrication des circuits intégrés (CI) et représente 40 %–50 % du temps de procédé dans la fabrication des puces. Le procédé de photolithographie nécessite non seulement une machine de lithographie, mais aussi un matériau clé : la photorésine. La photorésine est l’un des matériaux les plus critiques de l’industrie des semi-conducteurs. Dans l’ensemble du procédé de fabrication des circuits intégrés, la photolithographie représente environ 35 % du coût total de fabrication des puces et constitue le procédé central de la fabrication des semi-conducteurs. La photorésine est un mélange complexe principalement composé de solvants organiques, de résines polymères, de générateurs de photoacide (PAG) et d’additifs.
Le générateur de photoacide est un composant clé de la photorésine et joue un rôle décisif dans la photosensibilité et la résolution. Sa pureté et le contrôle de ses impuretés ont un impact important sur la qualité de la photorésine et sur le rendement global des produits semi-conducteurs. Un générateur de photoacide courant se compose d’une partie cationique triphénylsulfonium et d’une partie anionique sulfonate polyfluorée. La partie anionique présente presque aucune absorption UV, tandis que le détecteur à aérosol chargé (CAD) ne dépend pas de l’activité optique du composé, ce qui en fait un détecteur idéal pour contrôler la qualité des générateurs de photoacide. Cliquez pour voir le texte complet.