포토리소그래피는 집적회로(IC) 제조의 핵심 공정으로 칩 제조 시간의 40%-50%를 차지합니다. 포토리소그래피 공정에는 노광 장비뿐 아니라 핵심 소재인 포토레지스트도 필요합니다. 포토레지스트는 반도체 산업에서 가장 중요한 소재 중 하나입니다. 전체 IC 제조 과정에서 포토리소그래피 공정은 칩 제조 비용의 약 35%를 차지하며 반도체 제조의 핵심 공정입니다. 포토레지스트는 유기용매, 고분자 수지, 광산발생제(photoacid generator, PAG) 및 첨가제로 주로 구성된 복잡한 혼합물입니다.
이 가운데 광산발생제는 포토레지스트의 핵심 성분으로 감광도와 해상도를 결정합니다. 광산발생제의 순도와 불순물 관리는 포토레지스트와 전체 반도체 제품의 수율에 큰 영향을 미칩니다. 광산발생제는 일반적으로 트리페닐설포늄 양이온 부분과 폴리플루오로설포네이트 음이온 부분으로 구성되며 음이온 부분은 사실상 UV 흡수가 없습니다. 전하 에어로졸 검출기(CAD)는 화합물의 광학 활성에 의존하지 않으므로 광산발생제 품질 관리를 위한 이상적인 검출기로 사용할 수 있습니다. 전체 글 보기